智慧型手機處理器即將經歷效能新飛躍：韓國巨頭三星剛剛宣布開始生產 7 nm 光刻製程。此製程稱為“7 nm LPP EUV”，使用極紫外線 (EUV) 技術蝕刻 7 nm 寬的電路。
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三星於2018 年1 月成為半導體領域的世界第一，聲稱其製程將使其生產的晶片比採用當前最佳製程生產的晶片“密度高40%，效率高20%，能源密集度低50%” 。
好處非常明顯：用這種工藝生產的智慧型手機處理器（實際上是系統單晶片（SoC））要么在相同的頻率和功率下更加節能，要么由於添加了更多晶體管而更加高效。
不僅僅是處理器
如果我們與您談論智慧型手機處理器，那是因為這種類型的晶片適合所有人。但 7nm LPP EUV 光刻製程顯然適合其他電子元件的生產。從用於連接物件的組件到強大的 HBM2 記憶體再到神經晶片 (NPU)，幾乎所有類型的組件都受到關注......只要成本/性能比值得。
三星在這裡的表現不僅僅是7奈米晶片的「簡單」生產——這在實驗室中已經存在——而是產業化，這是以適中的成本進行大規模生產的關鍵，這是韓國的真正秘密。因為在機器方面，似乎是歐洲人負責…
ASML 和蔡司在引擎中的應用
這是一個很少被強調的事實，但三星、英特爾、台積電、索尼都不生產光刻機。四大製造商是荷蘭阿斯麥公司，日本的佳能和尼康，美國的Veeco。如果這兩個「照片」品牌最為知名，那麼 ASML 不僅是該領域的重量級人物（它將擁有全球 66% 的市場份額），而且也是最先進的。因為正是他向三星提供了 EUV 機器，機器的光學部分是由攝影界的另一個大佬研發的：德國蔡司。
ASML 和 Zeiss 的事實交付 EUV 機器三星並沒有從後者中奪走任何東西：並不是因為我們知道如何製造一級方程式賽車，我們就知道如何駕駛它。但這證明，在半導體領域，如果生產和工業主要在亞洲，那麼部分尖端技術（仍然）在歐洲。
