據報道，中國將在未來幾個月內推出首款 28 奈米 (nm) 光刻機，這是半導體生產鏈中的重要設備。半導體：這是中國官方媒體發布的公告證券日報8 月 1 日，該消息稱這是基於匿名消息來源。如果消息證實，這將是中國製造的第一台達到28奈米的DUV（深紫外線）浸沒設備。
該設備將於今年底投入使用。目前尚不清楚是否可以大量生產。截至8月2日星期三，原文已不再可用，但被包括官方通訊社在內的其他中外媒體引用新華社等彭博社。儘管美國採取了一千零一項旨在阻止中國工業採購電子晶片的措施，但該系統將能夠雕刻尺寸為 28 奈米的電路。
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減少對 ASML 依賴的機器
這項壯舉或對華盛頓的冷落，取決於你的觀點，將是上海微電子裝備集團（SMEE）的傑作，該公司可能是該行業為數不多的受益於北京空白支票的旗艦公司之一。去年三月，金融時報報道稱，中國政府選擇大規模且無限制地補貼一些本土企業«帶動產業脫貧»」一位接受我們同事採訪的政府官員解釋道。
多年來，美國一直試圖切斷中國與半導體（智慧型手機和人工智慧的重要組成部分）的聯繫，特別是透過使用出口管制這項法律武器。這種被迫的孤立迫使中國從頭到尾開始創建本土電子晶片生產鏈。在這條極其漫長且代價高昂的道路上，困難似乎不斷累積，直到現在。然而，這第一台機器的發布——如果得到證實——對北京來說將是一個小小的勝利，儘管還有很長的路要走。
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該國正在尋求開發自己的晶片生產設備，該領域目前掌握在全球最大的兩家機械供應商 ASML Holding NV 和 Tokyo Electron Ltd 手中。然而，自從美國、日本和荷蘭簽署協議以來，這兩家公司（分別是荷蘭和日本）對晶片製造設備（包括其零件）實施了美國的限制。
ASML 和 Tokyo Electron 的舊世代機器 (DUV) 很快就不再提供
到目前為止，中國仍然可以自給自足機器深紫外線 (DUV) 浸沒式微影），由 ASML 提供 — 機器老一輩，這使得製造汽車或其他連接物體的晶片成為可能。這家荷蘭公司已經拒絕向中國客戶出貨其最新的極紫外線 (EUV) 機器。這是最具創新性的設備，可以製造用於智慧型手機和人工智慧的小於 7 奈米的晶片。
而且規則即將進一步收緊：從 9 月 1 日起，ASML 可能不再向中國客戶供應其 DUV 設備（老一代）。日本也已經在做同樣的事情：從7月底開始限制與晶片相關的23種先進設備和材料的出口。因此，SMEE 的非正式公告（涉及 DUV 機器）是及時的。
這家成立於 2002 年的中國公司在去年的首次公開募股期間宣稱，外國設備的存在為其活動帶來了風險，但公司打算盡快降低這些風險。根據南華早報,該公司迄今為止能夠生產分辨率為90奈米，使得製造“低端晶片」。因此，從 90 奈米到 28 奈米將是真正的進步，即使中國還遠遠沒有達到正在開發的最新設備的技術水平。該領域的世界冠軍正在致力於 3 奈米甚至 2 奈米生產。
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我們的同事聯繫了彭博社，SMEE 不願對此資訊發表評論。巧合的是，這項非官方公告是在中國對美國限制措施的回應生效 24 小時後發布的。自8月1日起，其主要生產國鎵和鍺這兩種稀有金屬的出口受到限制。然而，這些是半導體產業的重要組成部分。
來源 ： 彭博社
