半导体：中国很快就能生产28纳米芯片了吗？

据报道，中国将在未来几个月内推出首款 28 纳米 (nm) 光刻机，这是半导体生产链中的重要设备。半导体：这是中国官方媒体发布的公告证券日报8 月 1 日，该消息称这是基于匿名消息来源。如果消息得到证实，这将是中国制造的第一台达到28纳米的DUV（深紫外）浸没设备。

该设备将于今年年底投入使用。目前尚不清楚是否可以大量生产。截至8月2日星期三，原文已不再可用，但被包括官方通讯社在内的其他中外媒体引用新华社等彭博社。尽管美国采取了一千零一项旨在阻止中国工业采购电子芯片的措施，但该系统将能够雕刻尺寸为 28 纳米的电路。

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减少对 ASML 依赖的机器

这一壮举或对华盛顿的冷落，取决于你的观点，将是上海微电子装备集团（SMEE）的杰作，该公司可能是该行业为数不多的受益于北京空白支票的旗舰公司之一。去年三月，金融时报报道称，中国政府选择大规模且无限制地补贴一些本土企业«带动产业脱贫»”一位接受我们同事采访的政府官员解释道。

多年来，美国一直试图切断中国与半导体（智能手机和人工智能的重要组成部分）的联系，特别是通过使用出口管制这一法律武器。这种被迫的孤立迫使中国从头到尾开始创建本土电子芯片生产链。在这条极其漫长且代价高昂的道路上，困难似乎不断累积，直到现在。然而，这第一台机器的发布——如果得到证实——对北京来说将是一个小小的胜利，尽管还有很长的路要走。

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该国正在寻求开发自己的芯片生产设备，该领域目前掌握在全球最大的两家机械供应商 ASML Holding NV 和 Tokyo Electron Ltd 手中。然而，自美国、日本和荷兰签署协议以来，这两家公司（分别是荷兰和日本）对芯片制造设备（包括其零部件）实施了美国的限制。

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ASML 和 Tokyo Electron 的老一代机器 (DUV) 很快将不再提供

到目前为止，中国仍然可以自给自足机器深紫外 (DUV) 浸没式光刻），由 ASML 提供 — 机器老一辈，这使得制造汽车或其他连接物体的芯片成为可能。这家荷兰公司已经拒绝向中国客户发货其最新的极紫外 (EUV) 机器。这是最具创新性的设备，可以制造用于智能手机和人工智能的小于 7 纳米的芯片。

而且规则即将进一步收紧：从 9 月 1 日起，ASML 可能不再向中国客户供应其 DUV 设备（老一代）。日本也已经在做同样的事情：从7月底开始限制与芯片相关的23种先进设备和材料的出口。因此，SMEE 的非正式公告（涉及 DUV 机器）是及时的。

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这家成立于 2002 年的中国公司在去年的首次公开募股期间宣称，外国设备的存在为其活动带来了风险，但公司打算尽快降低这些风险。根据南华早报,该公司迄今为止能够生产分辨率为90纳米，使得制造“低端芯片”。因此，从 90 纳米到 28 纳米将是真正的进步，即使中国还远未达到正在开发的最新设备的技术水平。该领域的世界冠军正在致力于 3 纳米甚至 2 纳米生产。